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德兰瓦嗜碱菌DSM 29504/Alkaliphilus transvaalensis

  • 货号 : HZB708953
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JCM 10712,分离自金矿地表以下 3.2 公里处的矿井防水坝

  • 规格 : 活化物(2周)
  • 品牌 : HZBMC
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产品名称 德兰瓦嗜碱菌DSM 29504/Alkaliphilus transvaalensis
别称 ATCC 700919, CGMCC 1.2940, CIP 107133, DSM 29504, JCM 10712
形态特征
特征特性 细菌, NCBI分类编号:114628, 采于南非卡尔顿维尔附近东德里分离自金矿地表以下 3.2 公里处的矿井防水坝, 模式菌株, BSL 1
生长特性 37°C,厌氧
主要用途 模式菌株
培养条件
培养基
使用方法 1.活化物(斜面/平板/菌液)使用:准备新鲜培养基, 使用接种环, 接种铲或无菌吸管, 将菌种转接至新鲜培养基, 放置到适宜培养环境, 2.①将冻存管放置在37-45℃水浴(霉菌30℃)溶解, 快速振摇溶解, ②使用酒精棉擦拭冻存管外壁消毒, 随后转移至安全柜操作, ③旋开管盖, 将溶解液全部吸出, 打入1-2个琼脂平板, ④涂布均匀后转移至上述培养条件下培养
传代方法 培养基成分:MJ(-N)合成海水:100.00ml, 酵母提取物(BD Bacto):2.00g, Tryptone(BD Bacto):2.00g, 焦磷酸二钠(Na2-tartrate x 2 H2O):1.00g, 枸橼酸三钠(Na3-citrate):1.00g, 硝酸钠(NaNO3):0.25g, 硫酸铵((NH4)2SO4):0.25g, 枸橼酸铁一水合物(Ferric citrate monohydrate):0.20g, 硫酸钠(Na2SO4):1.00g, 碳酸钠(Na2CO3):1.25g, 碳酸氢钠(NaHCO3):2.50g, 硫代硫酸钠五水合物(Na2S2O3 x 5 H2O):2.00g, 蒸馏水:900.00ml制备方法:除了碳酸盐, 碳酸氢盐和硫代硫酸盐之外, 溶解所有成分, 然后使用100%氮气吹扫培养基30至45分钟以制造无氧环境, 加入并溶解碳酸盐和碳酸氢盐, 使用氢氧化钾(KOH)调整pH至10, 然后在100%氮气氛围下将培养基分装到无氧的Hungate型试管或血清瓶中, 并进行高压灭菌, 从预先在100%氮气下制备并经过过滤灭菌的无菌无氧硫代硫酸钠溶液中加入硫代硫酸钠, 最后, 调整完全培养基的pH值至9.8至10.0, MJ(-N)合成海水:氯化钠(NaCl):30.00g, 磷酸二氢钾(K2HPO4):0.14g, 氯化钙二水合物(CaCl2 x 2 H2O):0.14g, 硫酸镁七水合物(MgSO4 x 7 H2O):3.40g, 氯化镁六水合物(MgCl2 x 6 H2O):4.18g, 氯化钾(KCl):0.33g, 氯化镍六水合物(NiCl2 x 6 H2O):0.50mg, 亚硒酸钠五水合物(Na2SeO3 x 5 H2O):0.50mg, 硫酸亚铁铵六水合物(Fe(NH4)2(SO4)2 x 6 H2O):0.01g, 改良Wolin's矿物溶液:10.00ml, 蒸馏水:1000.00ml改良Wolin's矿物溶液(来自141号培养基):, 乙二胺四乙酸(Nitrilotriacetic acid):1.50g, 硫酸镁七水合物(MgSO4 x 7 H2O):3.00g, 硫酸锰(MnSO4 x H2O):0.50g, 氯化钠(NaCl):1.00g, 硫酸亚铁七水合物(FeSO4 x 7 H2O):0.10g, 硫酸钴七水合物(CoSO4 x 7 H2O):0.18g, 氯化钙二水合物(CaCl2 x 2 H2O):0.10g, 硫酸锌七水合物(ZnSO4 x 7 H2O):0.18g, 硫酸铜五水合物(CuSO4 x 5 H2O):0.01g, 硫酸铝钾十二水合物(AlK(SO4)2 x 12 H2O):0.02g, 硼酸(H3BO3):0.01g, 焦钼酸钠二水合物(Na2MoO4 x 2 H2O):0.01g, 氯化镍六水合物(NiCl2 x 6 H2O):0.03g, 亚硒酸钠五水合物(Na2SeO3 x 5 H2O):0.30mg, 钨酸钠二水合物(Na2WO4 x 2 H2O):0.40mg, 蒸馏水:1000.00ml, 制备改良Wolin's矿物溶液, 首先溶解乙二胺四乙酸, 使用氢氧化钾(KOH)调整pH至6.5, 然后加入矿物质, 最后, 使用氢氧化钾调整最终pH至7.0
规格 活化物(2周)
保存说明 ①甘油冻存管, 保存于-80℃超低温冰箱, 能够保存半年以上, ②活化物, 保存于2~8℃冰箱, 可保存1-2周
注意事项 注意厌氧环境培养, 推荐使用厌氧手套箱操作, 培养基需除氧
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