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产品名称 | Clostridium tetanomorphum (Bulloch et al.) Bergey et al. |
别称 | NCTC 543 [259E, DSM 4474] |
形态特征 | |
特征特性 | 细菌,厌氧菌,产地:英格兰,分离基:化脓性伤口 |
生长特性 | 厌氧,37℃ |
主要用途 | |
培养条件 | |
培养基 | |
使用方法 | 繁殖程序:1。根据随附的说明打开小瓶。 2. 在厌氧条件下,从单个试管(5 至 6 ml)中取出 0.5 ml 推荐肉汤,并对整个小瓶内容物进行再水化。 3. 无菌地将等份转移回肉汤管中。也可以将细胞悬液各0.1ml接种到斜面和预减血板中。有氧血板也可以划线检查纯度。4。在 37°C 厌氧条件下孵育管和板。在 37°C 下有氧孵育血板。 5. 24 至 48 小时内,肉汤中的浑浊度应能明显看出生长情况。有氧培养的血琼脂平板上不应出现生长。转移的厌氧条件可以通过以下任一方式获得:·将培养基管放置在与无氧气源相连的通气插管系统下。培养的厌氧条件可通过以下任一方式获得: 使用 Balch 管维持厌氧条件: · Balch 管(可从新泽西州瓦恩兰的 Bellco Glass 获得;专为厌氧工作而设计,并使用铝制卷边盖来固定橡胶)塞子就位。针可以轻松地穿过塞子插入,管子可以加压到 2 个大气压。或者,可以使用血清瓶,或带有丁基橡胶塞子的螺旋盖管,在后一种情况下,可以将塞子取下,然后放置在插管系统下的管子,用于分配无菌、无氧气体,用于添加还原剂或接种。刃天青是一种常用的氧化还原指示剂,当氧化还原电位高于 –50 mv 时,呈粉红色;当氧化还原电位高于 –50 mv 时,呈无色。低于 –110 mv,即高度还原。大多数严格厌氧菌需要这种低氧化还原电位才能实现最佳生长。 · 要获得完全还原的培养基,必须使培养基缺氧并添加还原剂。常见的还原剂有硫化钠、半胱氨酸、二硫苏糖醇和柠檬酸钛。· 可以通过两种方法之一将注射器制成厌氧型。 |
传代方法 | ATCC 培养基 1053:强化梭菌培养基 (Oxoid CM149) |
规格 | |
保存说明 | |
注意事项 | 更多信息请前往ATCC官网获取 |
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