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Desulfovibrio alaskensis Feio et al.

  • 货号 : HZB366012
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ATCC 14563

  • 规格 :
  • 品牌 : HZBMC
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产品名称 Desulfovibrio alaskensis Feio et al.
别称
形态特征
特征特性 细菌,极端微生物
生长特性 厌氧,30℃
主要用途 生物技术
培养条件
培养基
使用方法 用 70% 乙醇喷洒 Balch 管顶部，然后燃烧顶部，对其顶部进行消毒。如果需要，将试管中的气体更换为无菌、无氧气体。每 10 mL 培养基添加 0.1 mL 还原剂（硫化钠，储备溶液）。让介质在室温下静置 30 分钟以完全还原。根据随附的说明打开小瓶。取一个装有 22 号针头的充气 1.0 mL 注射器，抽取 0.5 mL #1250 肉汤。用它来重新水化整个颗粒。立即将此等份转移回 Balch 管中。在非选择性介质上吸取 0.1 mL 板以检查是否污染。在 30oC 的厌氧气氛下孵育试管和一块板。在 30oC 下有氧孵育非选择性板以检查纯度。 24 至 48 小时内，肉汤中出现轻微混浊，生长明显。有氧培养的非选择性平板上不应出现生长。厌氧条件：Balch 管（可从新泽西州瓦恩兰的 Bellco Glass 购买）专为厌氧工作而设计，并使用铝制卷边盖将橡胶塞固定到位。针可以轻松地穿过塞子插入，并且管子可以加压至 2 个大气压。或者，可以使用血清瓶，或带有丁基橡胶塞的螺旋盖管，在后一种情况下，可以移除塞子并将管放置在套管系统下，该套管系统分配无菌、无氧气体以添加还原剂或接种。刃天青是一种常用的氧化还原指示剂，当氧化还原电位高于 –50 mv 时呈粉红色，当氧化还原电位低于 –110 mv 时呈无色。即高度减少。大多数严格厌氧菌需要这种低氧化还原电位才能实现最佳生长。为了获得完全还原的培养基，必须使培养基缺氧并添加还原剂。常见的还原剂有硫化钠、半胱氨酸、二硫苏糖醇和柠檬酸钛。可以通过两种方法之一使注射器厌氧。用无菌无氧气体置换注射器中的死腔。用还原剂置换注射器中的死腔。
传代方法 ATCC 培养基 1250：用于硫酸盐还原剂的改良 Barr 培养基，含 2.5% NaCl
规格
保存说明 2°C 至 8°C
注意事项 更多信息请前往ATCC官网获取
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